石墨烯防護薄膜具有很好的抗滲透性和阻隔性能。通過CVD法在多晶銅襯底上生長出不同層數的h-BN薄膜，由于h-BN自身的絕緣特性，單層和多層 h-BN 薄膜均表現出優異的大氣長效防護性能。在加熱條件下（200 ℃），高能氧氣容易通過單層 h-BN 薄膜的褶皺、晶界和點缺陷與銅基底發生氧化反應，形成的氧化物顆粒撕裂單層 h-BN 薄膜，導致薄膜的防護性能急劇下降，氧化區域不斷擴大；相反地，薄膜多層界面的構筑抑制了氧氣的橫向擴散，顯著提高了銅基底的抗氧化性能。

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